小型台式等离子清洗机有哪些加工方法

空气或氧气（O 2）气体通常用于等离子体清洁和表面活化。空气或O 2等离子体通过与高活性氧自由基的化学反应以及高能氧离子的烧蚀来去除有机污染物。等离子体还促进表面上的羟基化（OH基），使表面更具亲水性并提高表面润湿性。

　　水蒸气（H 2 O）也可用于引入羟基，并使表面更亲水。等离子系统需要使用特殊的气体输送处理。对于对水分敏感的样品，不建议使用H 2 O等离子体。

　　备选的，氩气等离子体可以优选用于表面活化，表面（例如金属）的进一步氧化。氩气等离子体通过离子轰击，和表面上污染物的物理消融进行清洁，并且还可以通过暴露于空气后等离子体活化的表面进行反应来提高表面亲水性。

　　可以在表面上施加四氟化碳（CF 4）等离子体，以形成含氟基团（CF，CF 2，CF 3）的疏水涂层。氟化等离子体减少了表面上亲水性极性端基的数量并降低了表面润湿性。若使用氟化气体，则需要用石英室代替标准的耐热玻璃室。

　　另外，对于硼硅酸盐玻璃中痕量杂质的潜在污染，建议使用石英腔室。

　　以下是Harrick等离子清洗机建议处理的工艺条件（可能需要进行一些实验才能确定最佳工艺条件）：

　　压力：100毫托至1托

　　射频功率：中或高

　　处理时间：1-3分钟

　　等离子处理后应立即使用表面（若长时间暴露于空气中，经过等离子体处理的表面可能会恢复其未经处理的表面特性）

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